Fabrication engineering at the micro- and nanoscale af Stephen A. Campbell (1954-) (Bog)

Bagsideteksten beskriver bogen som en grundig og tilgængelig introduktion til alle hovedområder af mikro- og nanofabrikation. Den fjerde udgave dækker både klassiske procestrin og nyere teknologier. Nye emner omfatter blandt andet flash- og spike-annealing, ekstreme ultraviolet (EUV) litografi, GaN epitaksial vækst og dopning, double exposure-ruter til sub-35-nm litografi, arkitekturer for nanoscale CMOS, bulk-silicium- og thin-film solcellefremstilling, GaN LED-fremstilling og mikrofluidics. Der er opdateret indhold om nonoptical lithography og udvidet materiale om state-of-the-art CMOS. Der henvises til supplerende ressourcer som en ledsagende hjemmeside med figurslides og en instruktørløsningsmanual. Bogen er målrettet kurser i semiconductor processing, microelectronics fabrication og lignende.
Teknisk fagbog om mikro- og nanofabrikation skrevet af Stephen A. Campbell og udgivet af Oxford University Press. Bogen er designet til avancerede bachelorstuderende eller førsteårsstuderende på kandidatniveau inden for halvlederteknologi, mikroelektronik og nanoteknologi. Den gennemgår grundlæggende og avancerede procestrin til fremstilling af integrerede kredsløb og andre mikro- og nanostrukturer. Emner omfatter blandt andet fotolitografi, ætsning, tyndfilmsaflejring, dopning, epitaksi, CMOS-processer ned til nanoskala, ikkeoptisk litografi, bulk- og thin-film solcelleproduktion, GaN LED-fabrikation og mikrofluidik. Bogen kombinerer teori, procesbeskrivelser, talrige eksempler og illustrationer og fungerer både som lærebog og referenceværk i renrumsteknologi og halvlederfremstilling.